PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

2. PVD镀膜和PVD镀膜机 —

PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是快的，它已经成为当今先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

3. PVD镀膜技术的原理 —

PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

4. PVD镀膜膜层的特点 —

采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类 —

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

6. PVD镀膜膜层的厚度 —

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～ 5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～ 1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。

在液态锂离子电池和聚合物锂离子电池的阴阳两极的制备时所使用的聚合物粘接剂对于电池的性能具有决定性的影响。在这里我们首先讨论一下含氟聚合物粘接剂的一般功能，接着是关于在铝和铜集流体表面上的附着力的影响因素，后讨论由高浓缩的PVDF浆料制备电极产品。

在实验室里，我们不断地研究制作优质电极薄膜的必要参数。包括浆料的粘度，配方，浆料的加工条件，以及溶剂特性（例如：NMP品质）。锂离子电池的性能在很大程度上取决于在生产过程中对聚合物和涂层科学的基本概念的理解与应用。然而这些基本属性是可以被不断改善的。如果对聚合物的一些特定属性加以控制，比如分子的质量，化学官能团和结晶度的控制，那么电池活性材料对金属集流体的附着力和活性材料粒子（如石墨，LiMn2O4，LiCoO2，LiNiO2）之间的粘结力都能被提高。我们已经研究发展出一些新的聚合物，以使液态锂离子电池和聚合物锂离子电池的性能得到大的提高。  

聚偏二氟乙烯（PVDF），VF2的均聚物和聚偏二氟乙烯共聚物，VF2（偏二氟乙烯）/HFP（六氟丙烯）的共聚物在锂离子电池系统中已经被广泛接受作为粘接剂的材料。它们在电化学性能、热稳定性，化学稳定性以及其生产工艺的简单程度是其它聚合物粘接剂所无法比拟的。

PVDF是一个由VF2单体，通过加聚反应合成的的聚合体。从结构上说，它由CH2键和CF2键相间连接的。该聚合物既具有典型的含氟聚合物的稳定性，同时聚合物链上的交互基团能产生一个独特的极性，该极性影响着聚合物的溶解度以及与锂离子、活性材料和金属集流器之间的相互作用力。PVDF和PVDF/HFP共聚物均具有很宽性能范围，能使它们与各种体系的相匹配，PVDF和PVDF/HFP共聚物在复杂的电池系统里的成功使用正是其这方面的特性，其中为重要的是电学稳定性、纯度、分子质量、熔点、溶解性和机械属性。例如一个电池生产商可以选择一种低分子量的PVDF来增加其溶解性，或可以选择一个高分子量的来增强诸如抗拉伸强度或延展性等机械属性。

PVDF和VF2/HFP共聚物是高结晶的高分子，其结晶度取决于合成路线的选择以及产品的纯度等等，在合适的条件下其结晶度可达到60%。在该结晶态时，聚合体的链是紧密排列并且高度有序的。而剩下的聚合体则是处于一种无定型状态并且在其链中存在着一个具有高度随机性的状态。结晶度控制着聚合体的众多整体属性。如熔点、绝缘性、抗拉伸强度、弯曲强度、脆度和渗透性能等等。在PVDF均聚合物的结晶部分和无定型态的相对比率是由合成反应条件、温度或单体的滴加速度来控制的。VF2／HFP共聚物的该比率,还可以通过一个常用的添加HFP来轻松控制。HFP能阻止聚合体链的有序排列从而降低体系的结晶度。结晶度的X射线测量法显示出当HFP的含量增加时，结晶度呈线性减少。